在半導體刻蝕工藝中，閥門雖小，卻關乎整條產線的命脈。一顆閥門的泄漏、一次微量的顆粒析出，都可能直接導致晶圓報廢。

工況介質與材質選擇

干法刻蝕使用硅烷、氯氣、氟化氫等特種氣體，濕法刻蝕涉及氫氟酸、王水等腐蝕性化學品。JPE沅亨鑄造球閥提供SS304、SS316L等多種材質，其中SS316L因低碳含量和優異的耐晶間腐蝕性能，適用于腐蝕性介質輸送。

結構與壓力等級

提供一片式、二片式、三片式三種結構，壓力覆蓋1000psig和2000psig，接口尺寸從1/4英寸到1-1/4英寸，支持卡套、NPT、BSPT、套焊等連接方式。

潔凈度控制

JPE沅亨配備無塵室進行潔凈裝配，從原材料到包裝全流程貫徹潔凈度控制。

密封與泄漏

半導體級閥門的內泄漏率要求低于1×10?? atm·cc/sec He。JPE沅亨配備氦質譜檢測設備，部分產品通過ISO 15848認證。

合規認證

已獲得ISO 9001、ISO 14001、ISO 45001、ASTM F1387、ISO 15848、EC-79等多項國際認證。

生產品控

堅持100%工廠精確測試，配備數控車床、加工中心、關節式機器人等先進制造設備

作者單位：JPE