設備概況

原子層沉積（ALD）是一種以準單原子層形式逐層周期性生長的薄膜沉積技術。ALD設備憑借其原子級別的精確控制能力、優異的薄膜覆蓋性以及超薄膜厚的均勻性，為邏輯芯片和存儲芯片的介質層等關鍵工藝提供先進的解決方案。

課題

1. 如何在石英腔體內非接觸的情況下，檢測出機械手晶圓位置。

2. 如何實現大數據配方下發功能（配方數據量約為2萬個字）。

解決方案

1. 通過環網技術實現遠程模塊環網冗余，防止因模塊斷線引起的物料損失。NX502+第三方攝像頭實現傳送機構的程序及視頻全流程監測，上位機FINS大數據配方下發功能+邏輯控制配合下位PLC執行方案適配ALD控制系統。

2. FINS一次下發1000個字，通過分段下發方式來完成，如果某段發送失敗（通過FINS指令反饋代碼）則重新發送該段代碼。PLC無需編寫通訊程序，只需要上位機按FINS協議開發。

系統配置

系統架構由工控機PC與歐姆龍NJ系列控制器+晶圓搬運機械手組成。其中，PC為上位機，NJ+ECC+ID+OD+AD+DA為下位執行機構，兩者通過交換機，以EtherNET(FINS)交互式通訊，實現整個系統的全數字控制。

實現價值

【經營層】

■ 依托專項技術能力，助力客戶實現價值增長，促進商業機會的有效轉化。

【管理層】

■ 通過實時數據分析賦能生產全流程，協同探索生產效率提升、成本結構優化與產品品質保障的可持續發展路徑。

【工程師層】

■ 采用FINS大數據傳輸控制技術，無需復雜編程即可實現大規模配方數據的高效傳輸，顯著縮短客戶開發周期，完成系統的全數字化控制部署。

相關產品

如果您對相關產品感興趣，歡迎掃碼留言，我們將與您取得聯系，并有機會獲得精美禮品！