前  言

高端科研與工業精密高壓供電分為閉環定點調壓、開環比例隨動調壓兩類主流方案，二者均可實現電壓調節，因調控邏輯不同，適配工況各有側重、互為補充。金升陽HO1系列閉環調壓模塊，可通過電位器或外置0-5V信號人工設定目標電壓，設定后輸出鎖定、抗擾性優異，適配固定工藝穩態場景。

針對半導體、質譜、電泳、激光等動態調壓場景，市面傳統開環高壓模塊普遍存在功率不足、啟動門檻高、線性度差、功耗偏高、穩定性弱等問題，且行業長期缺失標準化12W級高性能方案。

針對行業需求，金升陽全新推出HO3系列開環比例高壓產品，與HO1工況互補。產品依托自研雙驅動偏置專利技術完成性能升級，針對性優化啟動性能、全域調壓精度、空載功耗、響應速度等核心參數，打造適配多領域工況的12W級高性能比例調壓高壓供電方案。

HO3 vs HO1

同系高壓模塊，定位與應用方式精準區分

一、六大核心性能突破

HO3系列依托自研專利架構優化和多項自研專利技術，在滿載功率、低壓啟動、線性調壓精度、空載功耗、動態響應、電磁兼容六大核心維度實現體系化升級，綜合性能達到行業同級頂尖水準。各項性能優化精準對標傳統方案痛點，切實提升了設備集成、工藝調試、長期運行等全場景下的用戶價值。

01.功率性能升級

12W滿載輸出適配高負載工況

市面主流同架構的開環高壓模塊滿載輸出功率最大為10W，金升陽HO3系列通過優化內部功率拓撲結構，將單模塊穩定滿載輸出功率提升至12W。在維持74.6*38.1*26.0mm緊湊機身尺寸不變的前提下，負載驅動能力顯著提升，可充分滿足質譜離子源激發、半導體靜電卡盤大功率驅動等中高負載運行需求，單模塊即可適配絕大多數工業、科研設備常規負載工況。

02.極限低壓啟動

0.7V啟機拓寬全域調壓范圍

通過優化專利偏置啟動電路，HO3系列實現0.7V行業超低輸入啟動電壓，無限貼近器件導通物理閾值，相較于傳統開環電源1.5V起步啟動電壓，大幅下放低壓調控區間，搭配0.7V~15V超寬標準輸入電壓范圍，可實現高壓輸出大范圍平穩調節，低壓區間調控順滑無卡頓，充分滿足設備多檔位、多工況下的精細化參數調試需求。

03.專利動態補償加持

實現開環架構高線性調壓精度

普通無補償開環高壓電源，在全輸入電壓區間內升壓比例波動幅度較大，調控過程中電壓輸出易出現波動偏差。金升陽HO3系列內置自研升壓比動態補償電路，無需增設閉環反饋結構，即可將0.7V~15V全輸入區間升壓比偏差嚴格控制在±4%以內，遠超傳統產品±10%的偏差水平，達成趨近閉環穩壓電源的線性調控水準。

04.低空載功耗設計

長效運行溫控表現更優異

HO3系列優化內部損耗元器件布局與電路損耗結構，實測產品空載輸入典型電流僅136mA；產品滿載能量轉換最高效率可達80.92%。相較于市面同級產品偏高的空載運行電流，HO3顯著降低設備待機運行能耗，減少電源自身工作發熱，優化整機內部散熱環境，從而進一步延長整套供電系統的長效運行使用壽命。

05.極速動態響應

高低載工況電壓建立更平穩

針對動態調壓工況的快速響應需求，HO3系列通過優化驅動電路時序邏輯，實現高效電壓建立響應。產品空載電壓建立時間僅20ms，滿載電壓建立時間為120ms，動態響應速率與工況切換平穩性優于傳統開環產品。在設備參數調節、負載工況動態切換過程中，可快速響應指令電壓，無滯后、無超調，保障高壓輸出動態一致性，高度適配激光、質譜等需高速動態調壓的精密設備場景。

06.一體化屏蔽結構加持

原生電磁干擾控制表現出色

HO3系列產品研發聚焦比例調壓、高功率、快響應核心使用需求，未額外增設外置濾波電路。依托產品內部電路布局優化搭配全金屬六面屏蔽外殼設計，從結構層面抑制電磁與射頻干擾外泄，產品原生輸出紋波噪聲低至0.25%Vo，優于多數同架構同類產品。同時產品完整通過CISPR32/EN55032 CLASS B電磁兼容認證，順利通過靜電放電、輻射抗擾度等多項可靠性測試，可穩定適配各類電磁環境復雜的工業現場與實驗室工況。

二、產品特點

輸出電壓跟隨輸入電壓線性比例調節

輸入電壓范圍：0.7~15VDC/0.7~12VDC

最大雙路輸出0~±6kVDC，單路輸出0~12kVDC

產品工作效率最高可達78%

輸出電壓精度：±3%

輸出紋波電壓：0.3%HV

金屬外殼六面屏蔽封裝，極低的電磁/射頻干擾

輸出電壓建立時間：空載20ms，滿載120ms

輸出短路保護

輸入輸出隔離耐壓：4000VDC

工作溫度范圍：-10℃ to +71℃

EMI 滿足 CISPR32/EN55032 CLASS B

內部元器件全貼片化工藝設計

注：詳細特點和應用參見官網手冊

三、產品應用

HO3系列高壓電源模塊，憑借雙極性輸出、低紋波、高隔離低干擾的產品特性，可精準匹配多領域高壓精密比例調壓供電需求，核心應用場景如下：

質譜分析領域：為離子源、質量分析組件提供連續線性可調高壓，適配多模式檢測實驗參數靈活調節。

半導體工業領域：晶圓制程靜電卡盤供電、芯片生產柵極偏置穩定供電，支持正負雙路高壓輸出。

生命科學領域：實驗室電泳設備高壓驅動、各類精密科研實驗儀器穩定供電。

通用工業領域：高壓電容勻速充電、工業電場發生裝置、脈沖點火模組配套供電。

真空科研領域：離子泵持續供電、小型粒子探測設備高壓供電使用。

案例一：半導體工業

晶圓制程靜電卡盤供電

半導體晶圓靜電吸附設備，依托專用高壓供電單元，通過向靜電卡盤輸出隔離型可調正負高壓，構建可控靜電吸附電場，穩定產生靜電夾持力，實現真空工況下晶圓可靠固定、貼合與平穩傳輸，保障制程過程中晶圓穩定性與作業良率。

案例二 ：質譜分析設備

離子源核心供電

質譜儀離子源作為樣品電離與離子加速的核心單元，依托HO3系列高壓供電模塊，為離子源推斥極、聚焦透鏡組件提供連續線性可調高壓，構建穩定可控的加速與聚焦電場，驅動樣品離子完成電離、偏轉與聚焦過程，保障離子束傳輸效率與穩定性，為后續質量分析環節提供純凈、定向的離子流，支撐設備實現精準定性與定量檢測。

四、產品選型