在半導體制造過程中，從化學品配制、清洗、刻蝕到 CMP 漿料管理，液體化學品濃度的微小變化都可能對工藝穩定性、產品良率和生產效率產生影響。

隨著先進制程不斷發展，工藝控制對于實時性、準確性和可靠性的要求也在持續提高。如何實現穩定、連續且易于集成的在線濃度監測，已成為眾多半導體制造商和設備廠商關注的重要課題。

基于超過 40 年的 K-PATENTS? 在線折光測量技術積累，維薩拉正式推出新一代 Polaris? PR53S 半導體在線折光儀，為半導體濕法化學工藝提供更加精準、可靠的在線濃度測量方案。

為半導體濕法工藝而生

PR53S 專為半導體液體化學應用設計，可廣泛應用于：

?化學品混配（Blending）

?清洗工藝（Cleaning）

?刻蝕工藝（Etching）

?化學機械拋光（CMP）

?化學品輸送與分配系統（Chemical Distribution）

通過實時在線監測化學品濃度，幫助用戶實現更嚴格的過程控制，減少化學品浪費，并提升生產效率與一致性。

即使面對嚴苛工況，也能穩定測量

半導體濕法工藝環境往往充滿挑戰。氣泡、顆粒、結晶物以及復雜化學介質，都會影響傳統測量技術的穩定性。而 PR53S 采用成熟的在線折光測量原理，即使在存在氣泡、顆粒或晶體的情況下，依然能夠提供可靠且可重復的測量結果。

同時，產品內置溫度補償功能，實現無漂移測量，確保長期運行下的數據準確性，為關鍵工藝控制提供可信依據。

更緊湊，更易集成

除了測量性能，PR53S 在設備集成方面也進行了優化升級。其緊湊型設計搭配超純改性 PTFE 流通池，可輕松集成至濕法機臺、化學品輸送系統及各類工藝設備之中。潔凈室適用設計能夠滿足半導體行業對材料兼容性和潔凈度的嚴格要求。

對于設備 OEM 和系統集成商而言，PR53S 能夠在不增加系統復雜度的情況下，實現高可靠性的在線濃度監測。

少維護，更高運行時間

PR53S 采用無活動部件設計，無需耗材，維護需求低。設備既可獨立運行，也可與維薩拉 Indigo? 數據處理平臺配合使用，實現更加靈活的數據管理與系統集成。

從工藝優化到設備運維，從化學品管理到良率提升，PR53S 為半導體制造企業提供了一種更加可靠、高效的在線濃度測量解決方案。

主要優勢：

?專為半導體濕法化學工藝設計

?適用于混配、清洗、刻蝕、CMP 等關鍵應用

?即使存在氣泡、顆粒或結晶物仍可穩定測量

?集成溫度補償，實現長期無漂移測量

?無活動部件、無耗材，維護需求低

?緊湊型潔凈室設計，易于集成

?支持獨立運行或接入 Indigo平

當工藝控制的要求越來越嚴苛，可靠的數據將成為提升良率和效率的重要基礎。全新 Polaris? PR53S，以經過驗證的在線折光測量技術，為半導體濕法工藝帶來更精準、更穩定的濃度監測能力。了解更多產品信息，請訪問維薩拉官網：維薩拉 Polaris? PR53S 半導體在線折光儀 | 維薩拉 (Vaisala)。